足劲开发可替代EUV的光刻方案，他们选择了NIL纳米压印技术路线。 此前日本佳能、尼康等公司有过这种技术展示，现在日本DNP公司（大日本印刷株式会社）也宣布开发出了10nm的NIL纳米压印技术，可以将电路图直接印在基板上，该技术可以用于1.4nm工艺的逻辑芯片曝光。 具体技术上，DNP的10nm纳米压印
2投9中，三分3中1、罚球5中3，得到22分8篮板（5个前场篮板）1助攻1抢断，正负值+9。
p; 该公司已经研发NIL技术超过20年，目前的技术已经可以部分替代EUV光刻，为芯片制造商提供另一种高精度工艺生产的选择，现在已经在跟硬件供应商合作启动技术评估。 DNP公司预计在完成客户验证，建立量产和供应体系之后，预计2027年开始量产出货。 &nb
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